当代集成电路的发展进程中，紫外光刻技术起着不可替代的作用。利用紫外光源对紫外敏感的光刻胶进行空间选择性的曝光，进而将设计好电路版图转移到硅片上形成集成电路，这一工艺就是紫外光 刻技术。光刻机的分辨率和套刻精度直接决定了所制造的集成电路 的集成度，也成为了评价光刻设备品质的关键指标。

常规光刻机需要定制光学掩模板，不但价格高，且灵活性差。任何 设计上的变动，都需要重新制造掩模板。激光直写设备具备很高的 灵活性，且可以达到较高的精度，但由于是逐行扫描，曝光效率较 低。近些年，基于空间光调制器（DMD/DLP）的技术在紫外曝光 方面获得了长足的进展。

无掩膜版紫外光刻机具有高精度、高稳定性的特点。光刻图案设计灵活，能够实现所见即所得的精准套刻以及灰度光刻。

1、平面光刻

2、灰度光刻